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上海伯東美國 KRI 霍爾離子源 eH 400

	價格：元(人民幣)	產地：美國
	最少起訂量：1臺	發(fā)貨地：本地至全國
	上架時間：2020-09-11 17:40:24	瀏覽量：112
	伯東企業(yè)(上海)有限公司
	經營模式：代理商	公司類型：外商獨資
	所屬行業(yè)：	主要客戶：
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聯(lián)系人:羅 (先生)	手機:15201951076
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詳細介紹

因產品配置不同, 價格貨期需要電議, 圖片僅供參考, 一切以實際成交合同為準

上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 400 低成本設計提供高離子電流, 霍爾離子源 eH 400 尺寸和離子能量特別適合中小型的真空系統(tǒng), 可以控制較低的離子能量, 通常應用于離子輔助鍍膜, 預清洗和低能量離子蝕刻.

尺寸: 直徑= 3.7“ 高= 3”

放電電壓 / 電流: 50-300eV / 5a

操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機前體

伯東 KRI 霍爾離子源 eH 400 特性：

1.可拆卸陽極組件 - 易于維護; 維護時, 最大限度地減少停機時間; 即插即用備用陽極

2.寬波束高放電電流 - 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率

3.多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統(tǒng)

4.高效的等離子轉換和穩(wěn)定的功率控制

KRI 霍爾離子源 eH 400 技術參數:

型號	eH 400 / eH 400 LEHO
供電	DC magnetic confinement
- 電壓	40-300 V VDC
- 離子源直徑	~ 4 cm
- 陽極結構	模塊化
電源控制	eHx-3005A
配置	-
- 陰極中和器	Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode
- 離子束發(fā)散角度	> 45° (hwhm)
- 陽極	標準或 Grooved
- 水冷	前板水冷
- 底座	移動或快接法蘭
- 高度	3.0'
- 直徑	3.7'
- 加工材料	金屬電介質半導體
- 工藝氣體	Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors
- 安裝距離	6-30”
- 自動控制	控制4種氣體

* 可選: 可調角度的支架; Sidewinder

KRI 霍爾離子源 eH 400 應用領域:

1.離子輔助鍍膜 IAD

2.預清潔 Load lock preclean

3.In-situ preclean

4.Low-energy etching

5.III-V Semiconductors

6.Polymer Substrates

若您需要進一步的了解詳細信息或討論, 請參考以下聯(lián)絡方式:

上海伯東: 羅先生                               臺灣伯東: 王女士
T: +86-21-5046-1322                 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076                   M: +886-939-653-958
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