| 上海伯東美國 KRI 霍爾離子源 eH 1000 |
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價格: 元(人民幣) | 產地:美國 |
| 最少起訂量:1臺 | 發貨地:本地至全國 | |
| 上架時間:2020-09-11 17:38:29 | 瀏覽量:126 | |
伯東企業(上海)有限公司
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| 經營模式:代理商 | 公司類型:外商獨資 | |
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因產品配置不同, 價格貨期需要電議, 圖片僅供參考, 一切以實際成交合同為準 上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 1000 高效氣體利用, 低成本設計提供高離子電流, 特別適合中型真空系統. 通常應用于離子輔助鍍膜, 預清洗和低能量離子蝕刻. 尺寸: 直徑= 5.7“ 高= 5.5” 放電電壓 / 電流: 50-300V / 10A 操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機前體
伯東 KRI 霍爾離子源 eH 1000 特性: 1.可拆卸陽極組件 - 易于維護; 維護時, 最大限度地減少停機時間; 即插即用備用陽極 2.寬波束高放電電流 - 高電流密度; 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率 3.多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統; 安裝方便; 無需水冷 4.高效的等離子轉換和穩定的功率控制 KRI 霍爾離子源 eH 1000 技術參數:
* 可選: 可調角度的支架; Sidewinder
KRI 霍爾離子源 eH 1000 應用領域: 1.離子輔助鍍膜 IAD 2.預清洗 Load lock preclean 3.預清洗 In-situ preclean 4.Direct Deposition 5.Surface Modification 6.Low-energy etching 7.III-V Semiconductors 8.Polymer Substrates
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