| KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 成功用于多靶磁控濺射鍍膜機(jī) |
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價(jià)格：11 元(人民幣) | 產(chǎn)地：美國(guó) |
| 最少起訂量：1臺(tái) | 發(fā)貨地：本地至全國(guó) | |
| 上架時(shí)間：2021-02-24 15:39:59 | 瀏覽量：169 | |
伯東企業(yè)(上海)有限公司
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| 經(jīng)營(yíng)模式：代理商 | 公司類型：外商獨(dú)資 | |
| 所屬行業(yè)：真空泵 | 主要客戶： | |
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| 聯(lián)系人:羅 (先生) | 手機(jī):15201951076 |
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| 郵箱:marketing@hakuto-vacuum.cn | 地址:上海市浦東新區(qū)新金橋路1888號(hào)36號(hào)樓7樓702室 201206 |
某 OEM 廠商為了提高鍍膜機(jī)鍍膜的品質(zhì), 其為客戶搭建的多靶磁控濺射鍍膜機(jī)的濺射源采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380, 清洗源采用 KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000, 真空腔體搭配的是伯東 Pfeiffer 渦輪分子泵 HiPace 2300.
KRI 射頻離子源 RFICP380 技術(shù)參數(shù):
KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000 技術(shù)參數(shù):
F = Filament; HC = Hollow Cathode; xO2 = Optimized for O2 current
渦輪分子泵 HiPace 2300 技術(shù)參數(shù)：
鍍膜機(jī)實(shí)際運(yùn)用案例： 采用多靶磁控濺射鍍膜機(jī)在 UO_2 陶瓷 IFBA 芯塊表面上濺射沉積 ZrB_2 涂層，與其他未引用 KRI 離子源和 Pfeiffer 分子泵的多靶磁控濺射鍍膜機(jī)相比, 引進(jìn) KRI 離子源和 Pfeiffer 分子泵后, 其鍍制的 ZrB_2 涂層附著力明顯提高, 涂層厚度更加均勻, 晶粒更加細(xì)小, 沉積率更高.
KRI 離子源的獨(dú)特功能實(shí)現(xiàn)了更好的性能, 增強(qiáng)的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經(jīng)獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源技術(shù)的情況下是無(wú)法實(shí)現(xiàn)的.
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