| 卓爾凡定制半導(dǎo)體薄膜沉積專用穩(wěn)變一體機(jī) 380V變400V 三相高精度 |
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價(jià)格： 元(人民幣) | 產(chǎn)地：東莞 |
| 最少起訂量：1臺(tái) | 發(fā)貨地：湛江 | |
| 上架時(shí)間：2026-09-04 21:14:59 | 瀏覽量：14 | |
卓爾凡電力科技有限公司
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| 經(jīng)營模式：生產(chǎn)加工 | 公司類型：私營有限責(zé)任公司 | |
| 所屬行業(yè)：穩(wěn)壓器 | 主要客戶： | |
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卓爾凡電力科技生產(chǎn)半導(dǎo)體薄膜沉積設(shè)備專用穩(wěn)變一體機(jī)，輸入三相380V/50Hz，輸出三相400V/60Hz，穩(wěn)壓精度±0.5%，適用于PECVD、ALD、PVD等薄膜沉積設(shè)備的精密供電。136889–2–0-7-23 為什么薄膜沉積設(shè)備需要穩(wěn)變一體機(jī)？ 薄膜沉積是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵工序，薄膜厚度的均勻性直接決定芯片性能。電壓波動(dòng)會(huì)導(dǎo)致沉積速率突變，造成薄膜厚度超標(biāo)或不足。 進(jìn)口薄膜沉積設(shè)備多為400V/60Hz額定電壓。國內(nèi)工廠為380V/50Hz電網(wǎng)，需要變壓并穩(wěn)壓。穩(wěn)變一體機(jī)在轉(zhuǎn)換電壓的同時(shí)，將輸出穩(wěn)定在±0.5%以內(nèi)，確保沉積速率穩(wěn)定。 產(chǎn)品技術(shù)參數(shù)
適用設(shè)備 PECVD等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備、ALD原子層沉積設(shè)備、PVD物理氣相沉積設(shè)備、外延爐 關(guān)于SEMI F47標(biāo)準(zhǔn) 該標(biāo)準(zhǔn)要求設(shè)備在電壓跌落至50%持續(xù)0.2秒的情況下應(yīng)能正常工作。標(biāo)準(zhǔn)要求設(shè)備具備一定的耐受能力，并非設(shè)備主動(dòng)補(bǔ)償。對(duì)于配置了DVR等快速響應(yīng)補(bǔ)償裝置的方案，理論上可滿足該要求，具體選型建議向廠家技術(shù)部門咨詢確認(rèn)。 選型建議 容量按負(fù)載功率×1.3-1.5倍選型。建議配合DVR使用。 公司信息
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