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HX-4407  硅片清洗劑

 馬鞍山煥新環(huán)�？萍加邢薰�  型號：HX-4407

一、產(chǎn)品簡介 ：

硅片清洗劑是我公司生產(chǎn)的新一代半導(dǎo)體單晶片外延工藝或擴(kuò)散工藝前專用清洗劑。它利用化學(xué)剝離的原理有效將鍵入在硅片表面的顆粒、有機(jī)物、金屬離子等污染物去除。清洗劑中的活性物質(zhì)可以吸附在硅片表面，使其長期處于易清洗的物理吸附狀態(tài)（>120小時），而不像難清洗的化學(xué)吸附狀態(tài)轉(zhuǎn)化，并在表面形成保護(hù)層，防止顆粒的二次吸附，實現(xiàn)了把有害吸附轉(zhuǎn)化為無害吸附。能有效提高外延或擴(kuò)散工序的成品率。

二、主要特點：

硅片清洗劑中含有具有13個螯合環(huán)的無金屬離子螯合劑，對幾十種金屬離子有很強(qiáng)的螯合作用，防止了堿、重金屬離子對硅片沾污而影響器件的電學(xué)特性，便于制備高純的半導(dǎo)體襯底鏡面。清洗劑濃縮度高，可稀釋20-50倍，而且該產(chǎn)品粘度低、高效、環(huán)保、無毒、無腐蝕

三、主要用途：用于半導(dǎo)體硅器件、薄膜技術(shù)中的玻璃和金屬表面浸漬、噴淋、超聲波的清洗。
四、 技術(shù)指標(biāo)：

五. 注意事項：

5.1清洗后的工件在轉(zhuǎn)入下道工序前，應(yīng)充分水洗。

5.2工作使用時，應(yīng)每當(dāng)6小時檢測一次PH，并及時添加本劑，以保證工作液的效果。

5.3該液呈中性，不可食用，操作員應(yīng)減少皮膚或眼睛接觸，若有接觸，立即用大量水沖洗十分鐘。

5.4本品庫存時，可能有輕微沉淀現(xiàn)象，不影響處理質(zhì)量，加入時攪拌均勻即可。

5.5、避免金屬、顆粒污染。避免強(qiáng)電解質(zhì)的接觸

六. 包裝、儲運：

25kg或35kg塑料桶包裝，儲存于陰涼干燥處，運輸時桶口向上，防止泄漏。

運輸與存放溫度為5℃～50℃。存放時應(yīng)避光，以避免變質(zhì)

本劑保質(zhì)期為一年。按一般普通無危險化學(xué)品運輸。