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Clevios導電聚合物的涂覆

Clevios?分散體和配方可通過多種工藝進行涂覆或印刷，例如旋涂、狹縫涂布、噴涂、浸涂、凹版印刷、絲網(wǎng)印刷和噴墨打印

等。我們?yōu)槟承┕に囂峁┘从眯陀湍驖{料配方，同時我們的技術(shù)服務團隊能夠為其他需要進行產(chǎn)品改進的工藝提供支持。

在實驗室中，旋涂是將Clevios導電聚合物沉積為一道薄涂層的常見方式。接下來將對Clevios導電聚合物的旋涂工藝進行詳細介

紹:

通過旋涂工藝沉積到氧化銦錫(ITO)玻璃表面的Clevios?P導電聚合物涂層的厚度由以下幾個參數(shù)確定:

旋轉(zhuǎn)速度

加速度

旋轉(zhuǎn)時間

旋涂器的設(shè)計

基材尺寸和表面

■基材表面預處理的質(zhì)量

氧化銦錫(ITO)玻璃的預處理對于Clevios?P導電聚合物能否在該基材表面均勻分散影響極大。因此，并沒有通用的規(guī)則來

確定旋轉(zhuǎn)速度與涂層厚度之間的關(guān)系。為了描繪出典型的旋轉(zhuǎn)-厚度示例曲線，我們將各種Clevios?P系列的導電聚合物旋涂

在涂有氧化銦錫(ITO)的玻璃基材表面。結(jié)果在旋涂機(帶3”Gyrset罩的Carl Suss®RC 8)上顯示。首先將尺寸為50 mmx

50 mm的涂有氧化銦錫(ITO)的玻璃基材采用濕洗法洗凈，然后將其表面置于紫外線/臭氧腔室中進行活化處理，時間為15

分鐘。通過Pasteur移液管將約1-2毫升的Clevios?P系列導電聚合物沉積到玻璃基材表面。進行旋涂工藝前，手動將該聚合物

分散體分散到整個基材表面。

旋涂工藝結(jié)束后，將濕膜置于加熱板上進行熱風烘烤。推薦的烘烤溫度和烘烤時間:Clevios?PAI4083、Clevios? P

CH8000等電子產(chǎn)品用導電聚合物及Clevios?HIL系列:在200℃的溫度下烘烤5分鐘;Clevios?PH 1000、Clevios? HIL-

E、Clevios?F ET或Clevios?HIL 8等高導電性產(chǎn)品:在130C的溫度下烘烤15分鐘。

其他提示:

如果Clevios? P分散體在涂覆過程中出現(xiàn)濕潤現(xiàn)象，可在其中加入不超過10%(重量比)的異丙醇。此外，加入表面

活性劑也能改善潤濕性，尤其是在疏水表面。

在OLED應用中，Clevios?P導電聚合物的涂層厚度通常在50-80nm之間。涂層厚度應通過實驗不斷進行優(yōu)化，以實現(xiàn)

的透過率和成膜質(zhì)量。如有需要，Clevios?HIL系列大多數(shù)產(chǎn)品都可提供n數(shù)據(jù)和k數(shù)據(jù)。

所有剩余/未使用的分散體在涂覆結(jié)束后都應倒出設(shè)備，以避免干燥后的分散體造成腐蝕和進一步的顆粒污染。

基材的處理

在沉積Clevios?導電聚合物前對基材進行的預處理

干凈、尤其是不含油脂的表面是確保Clevios?導電聚合物涂層均勻沉積在玻璃基材、透明氧化層(TCO)或塑料薄膜表面的先

決條件。

采用濕洗法清潔玻璃或TCO基材的步驟:

使用無絨紙巾和丙酮溶劑擦拭基材，以清除劃割時粘附的玻璃顆粒

?在60°℃的溫度下，將基材置于含普通玻璃清洗劑(如3%Mucasol®，德國Kalle公司)的去離子水中，使用超聲波清洗

10分鐘

。使用去離子水徹底沖洗

在60°℃的溫度下，將基材置于去離子水中，使用超聲波清洗10分鐘

使用去離子水徹底沖洗

將基材置于乙醇溶劑中，使用超聲波清洗5分鐘

?在40°C的溫度下，將基材置于丙酮溶劑中，使用超聲波清洗5分鐘

應重復以上清洗步驟直到基材表面不含任何渾濁雜質(zhì)。用于清洗基板的所有溶劑都應符合PA質(zhì)量。

通過等離子體、紫外線/臭氧或電暈放電工藝對表面進行活化處理，可以顯著改善Clevios?導電聚合物在玻璃、TCO和PET薄膜

等各種基材表面的水滴角。

使用去離子水徹底沖洗