1794-OB32P變頻器CPU處理器電源模塊
在同期的IC制造產業鏈國際論壇上，思銳智能副總經理陳祥龍表示：“離子注入設備正在賦能新一代邏輯，存儲，圖像傳感器，功率半導體等熱門應用領域均可利用離子注入機以提升器件性能或產能。新興應用推動了離子注入技術創新，以消費市場為例，智能手機對于相機像素的要求越來越高，圖像傳感器（CIS）需要制備更高深寬比的深層光電二極管。
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1794-IC16
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1794-IE12
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1794-IE4XOE2
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1794-IE8
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1794-IV16
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1794-OM8
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1794-OV16
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1794-OV16P
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1794-OV32
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1794-OB32P變頻器CPU處理器電源模塊
此時，離子注入的能量將達到8MeV、甚至超過10MeV，高能離子注入機成為不可替代的選擇。同時，先進制程的發展也進一步推動了低能大束流機的應用。思銳智能布局了“高能離子注入機 + 大束流離子注入機”的系列產品組合，以應對更多應用挑戰。”
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