| KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220 輔助濺射沉積 MnZn 鐵氧體薄膜 |
 |
價格： 元(人民幣) | 產地：美國 |
| 最少起訂量：1個 | 發貨地：上海 | |
| 上架時間：2023-03-24 11:29:43 | 瀏覽量：319 | |
伯東企業(上海)有限公司
 |
||
| 經營模式：代理商 | 公司類型：外商獨資 | |
| 所屬行業：真空泵 | 主要客戶： | |
 在線咨詢  |
||
| 聯系人:羅 (先生) | 手機:15201951076 |
電話: |
傳真: |
| 郵箱:marketing@hakuto-vacuum.cn | 地址:上海市浦東新區新金橋路1888號36號樓7樓702室 201206 |
|
電子系統在快速發展, 但是磁性器件二維化而引發與三維塊材迥異的特性和制備工藝與半導體技術難以兼容的問題仍未能很好的解決. 因此 MnZn鐵氧體作為一種優良磁性器件用磁性材料, 對其進行薄膜化并研究其特性, 乃至最終制作成平面化、小型化的磁性器件顯得尤為重要.
四川某實驗室采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 輔助磁控濺射沉積方法在 Si(100)/ Si(111) 和玻璃基片上原位沉積 MnZn 鐵氧體薄膜, 用以研究 MnZn 鐵氧體薄膜的低溫晶化、取向生長等問題.
伯東 KRI 射頻離子源 RFICP220 技術參數:
* 可選: 燈絲中和器; 可變長度的增量
試驗中, 采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 輔助磁控濺射沉積的方法獲得均勻致密、大面積的 MnZn 鐵氧體薄膜, 沉積過程中通過調節參數, 從而改變薄膜厚度、晶粒尺寸, 得到多種規格的高性能的 MnZn 鐵氧體薄膜材料, 滿足各種試驗需求.
KRI 離子源的獨特功能實現了更好的性能, 增強的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源技術的情況下是無法實現的.
因此, 該研究項目才采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 輔助濺射沉積工藝.
伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的代理商.
若您需要進一步的了解詳細信息或討論, 請參考以下聯絡方式:
上海伯東: 羅先生 臺灣伯東: 王女士 伯東版權所有, 翻拷必究! |
| 版權聲明：以上所展示的信息由會員自行提供，內容的真實性、準確性和合法性由發布會員負責。機電之家對此不承擔任何責任。 友情提醒：為規避購買風險，建議您在購買相關產品前務必確認供應商資質及產品質量。 |
.jpg)