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大口徑射頻離子源 RFICP 380
上海伯東美國 KRi 大口徑射頻離子源 RFICP 380, 3層柵極設計, 柵極口徑 38cm, 提供離子動能 100-1200eV 寬束離子束, 最大離子束流 > 1000mA, 滿足 300 mm (12英寸)晶圓應用. 廣泛應用于離子束刻蝕機.
KRi 射頻離子源 RFICP 380 特性
1. 放電腔 Discharge Chamber, 無需電離燈絲, 通過射頻技術提供高密度離子, 工藝時間更長. 2kW & 1.8 MHz, 射頻自動匹配
2. 離子源結構模塊化設計
3. 離子光學, 自對準技術, 準直光束設計, 自動調節技術保障柵極的使用壽命和可重復的工藝運行
4. 全自動控制器
5. 離子束動能 100-1200eV
6. 柵極口徑 38cm, 滿足 300 mm (12英寸)晶圓應用
射頻離子源 RFICP 380 技術規格:
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陽極
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電感耦合等離子體
2kW & 1.8 MHz
射頻自動匹配
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最大陽極功率
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>1kW
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最大離子束流
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> 1000mA
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電壓范圍
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100-1500V
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離子束動能
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100-1200eV
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氣體
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Ar, O2, N2,其他
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流量
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5-50sccm
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壓力
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< 0.5mTorr
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離子光學, 自對準
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OptiBeamTM
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離子束柵極
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38cm Φ
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柵極材質
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鉬
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離子束流形狀
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平行,聚焦,散射
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中和器
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LFN 2000
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高度
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38.1 cm
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直徑
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58.2 cm
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鎖緊安裝法蘭
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12”CF
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射頻離子源 RFICP 380 基本尺寸:
上海伯東美國考夫曼 KRI 大口徑射頻離子源 RFICP 220, RFICP 380 成功應用于 12英寸和 8英寸磁存儲器刻蝕機, 8英寸量產型金屬刻蝕機中, 實現 8英寸 IC 制造中的 Al, W 刻蝕工藝, 適用于 IC, 微電子,光電子, MEMS 等領域.
作為蝕刻機的核心部件, KRI 射頻離子源提供大尺寸, 高能量, 低濃度的離子束, 接受客戶定制, 單次工藝時間更長, 滿足各種材料刻蝕需求!
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上海伯東: 羅先生 臺灣伯東: 王女士
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