| 原子層氣相沉積 |
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價格： 元(人民幣) | 產地：河南鄭州 |
| 最少起訂量：1套 | 發貨地：河南鄭州 | |
| 上架時間：2023-01-06 09:16:13 | 瀏覽量：113 | |
鄭州邦達電氣有限公司
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原?層沉積是基于表?控制的薄膜沉積技術。在鍍膜過程中，兩種或更多的化學?相前驅體依次在基底表?發?化學反應從?產?固態的薄膜。在反應腔內有惰性載?穿過；前驅體通過極短的脈沖注?到這個惰性載?中。 惰性載?攜帶著前驅體脈沖作為?種有序“波”依次通過反應腔，真空泵管路，過濾系統，并終通過真空泵。 ALD前驅 可?原?層沉積的常?的材料包括（選擇）： 氧化物: Al2O3, CaO, CuO, Er2O3, Ga2O3, HfO2, La2O3, MgO, Nb2O5, Sc2O3, SiO2, Ta2O5, TiO2, VXOY, Y2O3, Yb2O3, ZnO, ZrO2, etc. 氮化物: AlN, GaN, TaNX, TiAlN, TiNX, etc. 碳化物: TaC, TiC, etc. ?屬: Ir, Pd, Pt, Ru, etc. 硫化物: ZnS, SrS, etc. 氟化物: CaF2, LaF3, MgF2, SrF2, etc. ?物材料: Ca10(PO4)6(OH)2 (hydroxyapatite) 聚合物: PMDA–DAH, PMDA–ODA, etc. 摻雜納?涂層和復合結構：ALD 可以使??量不同的材料組合 |
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