| 伯東 KRI 雙離子源輔助離子束濺射技術獲取高反射吸收Ta2O5薄膜 |
 |
價格：11 元(人民幣) | 產地：美國 |
| 最少起訂量：1臺 | 發貨地：本地至全國 | |
| 上架時間：2020-10-16 10:53:35 | 瀏覽量：215 | |
伯東企業(上海)有限公司
 |
||
| 經營模式：代理商 | 公司類型：外商獨資 | |
| 所屬行業：真空泵 | 主要客戶： | |
 在線咨詢  |
||
| 聯系人:羅 (先生) | 手機:15201951076 |
電話: |
傳真: |
| 郵箱:marketing@hakuto-vacuum.cn | 地址:上海市浦東新區新金橋路1888號36號樓7樓702室 201206 |
為了獲取高性能紫外激光薄膜元件, 急需研制紫外高吸收薄膜, 某研究所采用伯東 KRI 雙離子源輔助離子束濺射沉積技術鍍制 Ta2O5 薄膜進行研究.
其系統工作示意圖如下：
該研究所的離子束濺射鍍膜組成系統主要由濺射室、雙離子源、濺射靶、基片臺等部分組成.
其中雙離子源中的一個離子源適用于濺射靶材, 另個離子源是用于基材的預清洗.
用于濺射的離子源采用伯東的 KRI 聚焦型射頻離子源 380, 其參數如下:
伯東 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380 技術參數：
推薦理由： 聚焦型濺射離子源一方面可以增加束流密度, 提高濺射率; 另一方面減小離子束的散射面積, 減少散射的離子濺射在靶材以外的地方引起污染
用于預清洗的離子源是采用伯東 KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000
KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000 技術參數:
其濺射室需要沉積前本底真空抽到 1×10-5Pa, 經推薦采用伯東分子泵組 Hicube 80 Pro, 其技術參數如下：
運行結果： 伯東 KRI 雙離子源輔助離子束濺射技術可以制備不同吸收率的355nm高反射吸收 Ta2O5 薄膜.
伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.
若您需要進一步的了解詳細信息或討論, 請參考以下聯絡方式:
上海伯東: 羅先生 臺灣伯東: 王女士 伯東版權所有, 翻拷必究！ |
| 版權聲明：以上所展示的信息由會員自行提供，內容的真實性、準確性和合法性由發布會員負責。機電之家對此不承擔任何責任。 友情提醒：為規避購買風險，建議您在購買相關產品前務必確認供應商資質及產品質量。 |
