| 伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 380 成功用于輔助蒸鍍 TiO_2薄膜 |
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價格:11 元(人民幣) | 產地:美國 |
| 最少起訂量:1臺 | 發貨地:本地至全國 | |
| 上架時間:2020-09-15 13:17:19 | 瀏覽量:151 | |
伯東企業(上海)有限公司
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| 經營模式:代理商 | 公司類型:外商獨資 | |
| 所屬行業:真空泵 | 主要客戶: | |
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氧化鈦(TiO2)是一種具有多元晶格結構的光學鍍膜材料, 氧化鈦在550nm處的折射率可在2.2~2.7之間變化, 是一種很好的高折射率材料. 因此, 氧化鈦(TiO2)是光學鍍膜材料中最受歡迎的材料之一.
離子源助鍍鍍膜可改善膜層致密性、增加折射率、反射率, 提升產品性能指標.
某國內光學鍍膜制造商為了制備 TiO2 薄膜并提升高反膜性能, 其采用離子源輔助蒸鍍 TiO_2薄膜.
經過與伯東工程師討論, 該制造商最終采用伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 380, 同時為了為鍍膜工業提供穩定的合適的真空環境, 伯東工程師為制造商搭配大抽速分子泵組 Hicube 700 Pro, 采用金屬密封, 極限真空度可達1x10-7hpa, 抽速可達 685 L/s, 很好保證成膜質量.
美國 KRI 射頻離子源 RFICP 380 特性: 1. 大面積射頻離子源 2. 提供高密度離子束, 滿足高工藝需求 3. 采用射頻技術產生離子, 無需電離燈絲, 工藝時間更長, 更適合時間長的工藝要求 4. 離子束流: >1500 mA 5. 離子動能: 100-1200 V 6. 中和器: LFN 2000 7. 采用自動控制器, 一鍵自動匹配 8. RF Generator 可根據工藝自行選擇離子濃度, EX: 1kW or 2kW 9. 離子源采用模塊化設計, 方便清潔/ 保養/ 維修/ 安裝 10. 柵極材質鉬和石墨, 堅固耐用 11. 通入氣體可選 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, others
運行結果: 與正常蒸鍍工藝相比, 基片溫度相同條件下, 使用 KRI 射頻離子源 RFICP 380 輔助沉積工藝, 可以有效提高的 TiO2 薄膜折射率;離子束助鍍工藝激光器峰值功率離散度最小, 且平均峰值功率普遍高于正常蒸鍍工藝.
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伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.
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