產品簡介
品牌
| 其他品牌 |
價格區間
10萬-30萬 |
產地類別
| 國產 |
應用領域
地礦 |
VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發的一款高真空鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀配備有兩個靶槍，一個弱磁靶用于非導電材料的濺射鍍膜，一個強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比，且具有體積小便于操作的優點，且可使用的材料范圍廣
詳細介紹
VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發的一款高真空鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀配備有兩個靶槍，一個弱磁靶用于非導電材料的濺射鍍膜，一個強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比，且具有體積小便于操作的優點，且可使用的材料范圍廣，是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設備。
1、配置兩個靶槍，一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜，一個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。
2、可制備多種薄膜，應用廣泛。
3、體積小，操作簡便。
| 產品名稱 | VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀
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產品型號
| VTC-600-2HD
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| 安裝條件 | 本設備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水：設備配有自循環冷卻水機（加注純凈水或者去離子水）
2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地
3、氣：設備腔室內需充注氬氣（純度99.99%以上），需自備氬氣氣瓶（自帶?6mm雙卡套接頭）及減壓閥
4、工作臺：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上
5、通風裝置：需要
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主要參數
| 1、電源電壓：220V 50Hz
2、功率：<2KW（不含真空泵）
3、極限真空度：9.0×10-4Pa
4、樣品臺加熱溫度：RT-500℃，精度±1℃（可根據實際需要提升溫度）
5、靶槍數量：2個（可選配其他數量）
6、靶槍冷卻方式：水冷
7、靶材尺寸：?2″，厚度0.1-5mm（因靶材材質不同厚度有所不同）
8、直流濺射功率：500W；射頻濺射功率：300W。（靶電源種類可選，可選擇兩個直流電源，也可選擇兩個射頻電源，或選則一個直流一個射頻電源）
9、載樣臺：?140mm，可根據客戶需求選配加裝偏壓功能，以實現更高質量的鍍膜。
10、載樣臺轉速：1rpm-20rpm內可調
11、工作氣體：Ar等惰性氣體
12、進氣氣路：質量流量計控制2路進氣，一路為100SCCM，另一路為200SCCM。
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| 產品規格 | 1、主機尺寸：500mm×560mm×660mm
2、整機尺寸：1300mm×660mm×1200mm
3、真空室規格：φ300×300mm
4、重量：160kg |
| 標準配件 | 1直流電源控制系統1套
2射頻電源控制系統1套
3膜厚監測儀系統1套
4分子泵（德國進口）1臺
5冷水機1臺
6冷卻水管（?6mm）4根
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| 可選配件 | 金、銦、銀、鉑等各種靶材 |
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