| 伯東 KRI 離子源成功應用于離子濺射鍍膜 (IBSD) |
![]() |
價格: 元(人民幣) | 產地:美國 |
| 最少起訂量:1臺 | 發貨地:本地至全國 | |
| 上架時間:2020-08-18 15:35:08 | 瀏覽量:312 | |
伯東企業(上海)有限公司
![]() |
||
| 經營模式:代理商 | 公司類型:外商獨資 | |
| 所屬行業:真空泵 | 主要客戶: | |
在線咨詢 ![]() |
||
| 聯系人:羅 (先生) | 手機:15201951076 |
|
電話: |
傳真: |
| 郵箱:marketing@hakuto-vacuum.cn | 地址:上海市浦東新區新金橋路1888號36號樓7樓702室 201206 |
美國考夫曼公司Gridded Ion Sources (柵極離子源) 系列 RFCIP離子源 (射頻電源式考夫曼離子源), KDC 離子源 (直流電源式考夫曼離子源) 已廣泛被應用于離子濺射鍍膜 (IBSD) 工藝.
離子濺射鍍膜是在部分真空的濺射室中輝光放電, 產生正的氣體離子;在陰極(靶)和陽極(試樣)間電壓的加速作用下, 荷正電的離子轟擊陰極表面, 使陰極表面材料原子化;形成的中性原子, 從各個方向濺出, 射落到試樣的表面, 于是在試樣表面上形成一層均勻的薄膜.
伯東 KRI考夫曼離子源可控制離子的強度及濃度, 使濺射 (Sputtering) 時靶材 (Target) 被轟擊出具有中和性材料分子而獲得高致密, 高質量之薄膜. 考夫曼離子源可依客戶濺射 (Sputtering) 工藝條件選擇 RFICP 離子源 (射頻電源式考夫曼離子源) 或是 KDC 離子源 (直流電原式考夫曼離子源). 規格如下: RFCIP 離子源 (射頻式考夫曼離子源) : RFICP 40, RFICP 100, RFICP 140, RFICP 220, RFICP 380 KDC 離子源 (直流式考夫曼離子源): KDC10, KDC40, KDC75, KDC100, KDC160.
伯東公司為 Kaufman & Robinson, Inc (美國考夫曼公司) KRI 離子源大中國區總代理.
伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, Gel-Pak 芯片包裝盒, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.
若您需要進一步的了解詳細信息或討論, 請參考以下聯絡方式:
上海伯東: 羅先生 臺灣伯東: 王女士 伯東版權所有, 翻拷必究! |
| 版權聲明:以上所展示的信息由會員自行提供,內容的真實性、準確性和合法性由發布會員負責。機電之家對此不承擔任何責任。 友情提醒:為規避購買風險,建議您在購買相關產品前務必確認供應商資質及產品質量。 |