?????? PVD是Physical Vapor Deposition的縮寫，即物理氣相沉積，是指在真空條件下，用物理的方法（如加熱蒸發、離子轟擊）使材料汽化、沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術。
相比于電鍍、熱處理、噴涂等表面處理方法，PVD方法是一種更加先進的表面處理方法，具有更加環保、可以處理各種固體基材、涂層種類眾多、可以實現各種各樣的表面功能需求，如耐磨、導電、絕緣、潤滑、耐蝕、隔熱等各種物理、化學、機械方面的功能。
?????? PVD技術包括真空蒸鍍、濺射鍍膜、離子鍍。
蒸發鍍包括電子束蒸發和熱蒸發。
濺射鍍膜包括直流濺射、射頻濺射和脈沖直流濺射。
真空蒸鍍工藝簡單，純度高，通過掩膜易于形成所需要的圖形，缺點是蒸鍍化合物時由于熱分解現象難以控制組分，低蒸汽壓物質難以成膜。
濺射鍍膜的優點是附著性好，易于保持化合物、合金的組分比；缺點是需要濺射靶，靶材需要精制，而且利用率低。
離子鍍的優點是附著性能好，化合物、合金、非金屬均能成膜，缺點是表面顆粒較大。
????? 星弧涂層是一家專業從事PVD涂層設備制造和涂層服務的高新技術企業，典型的技術包括磁控濺射、電弧離子鍍和離子束鍍膜，制備的涂層具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系數）、很好的耐腐蝕性和化學穩定性等特點，在各行業得到廣泛的應用。
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