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uv光氧催化設備功能與作用，光催化氧化是在外界可見光的作用下發生催化作用,光催化氧化反應是以半導體及空氣為催化劑，以光為能量，將有機物降解為CO2和H2O及其它無毒無害成份。本公司利用人工紫外線光波作為能源，配合經我公司特殊處理后活性最強、反應效率最高的納米TiO2催化劑,廢臭氣體經過處理后可達到凈化的更理想的效果。

UV光催化設備的特點：

1、UV光催化設備能高效去除揮發性有機物、硫化氫、氨氣等無機物類污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率可達99%以上，脫臭效果大大優于頒布的惡臭污染物排放標準(GB14554-93)

2、UV光催化設備可適應于絕大部分高濃度，大氣量，不同惡臭氣體物質的脫臭凈化處理，通過合理的模塊配置可廣泛應用于：煉油廠、橡膠廠、化工廠、制廠、污水處理廠、垃圾中轉站、污水泵房、空調等惡臭氣體的脫臭滅菌凈化處理。可每天24小時連續工作，運行穩定可靠。

3、UV光催化設備無任何機械裝置，無運動噪音，無需專人管理和日常維護，只需要作定期檢查維護，維護和能耗成本低，風阻極低，可節約大量排風動力能耗，達到節能的目的。

4、UV光催化設備采用光解原理，采取了隔處理，了安全隱患、防火、防、防腐蝕性能高，設備性能安全穩定，特別適用于高濃度易燃易廢氣的場合。

5、UV光催化設備無需惡臭氣體進行特殊的預處理，如加溫、加濕等，設備工作環境溫度在-30度~95度之間，濕度在30%~98%、PH值在2~13范圍均可正常工作，無需添加其他物質及劑參與處理。

6、UV光催化設備可根據風量及氣體濃度的大小，進行靈活配置，采用抽屜式插拔安裝形式，配件統一，安裝及維護方便。備件可在線維護和更換，方便靈活。

UV光催化設備工作原理：

1、利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射來裂解排放的廢氣廢氣，能有效的處理：硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，等廢氣的分子鏈結構，使有機或無機高分子廢氣化合物分子鏈，在高能紫外線光束照射下，降解轉變成低分子化合物，如CO2、H2O等，從而達到有效的治理，實現達標排放。

在光照下，如果光子的能量大于半導體禁帶寬度，其價帶上的電子（e-）就會被激發到導帶上，同時在價帶上產生空穴（h+）。當存在合適的俘獲劑、表面缺陷或者其他因素時，電子和空穴的復合得到抑制，就會在催化劑表面發生氧化還原反應。價帶空穴是良好的氧化劑，導帶電子是良好的還原劑，在半導體光催化反應中，一般與表面吸附的H2O、O2反應生成.OH和超氧離子O2-，能夠把各種有機物直接氧化成CO2和H2O等無機小分子，電子也具有強還原性，可以還原吸附在其表面的物質。激發態的導帶電子和價帶空穴能重新合并，并產生熱能或其他形式散發掉。

光解催化設備在波長范圍 170nm-184.9nm（704 kj/mol - 647 kj/mol）高能紫外線的作用下，一方面空氣中的氧氣被裂解，然后組合產生臭氧；另一方面將惡臭氣體的化學鍵斷裂，uv光氧催化設備優良，使之形成游離態的原子或基團；同時產生的臭氧參與到反應過程中，使惡臭氣體最終被裂解、氧化生成簡單的穩定的化合物，如CO2、H2O、SO2、N2等。

1、惡臭物質能否被光解除臭設備裂解，取決于其化學鍵鍵能是否比所提供的UV光子的能量要低。

2、裂解反應的時間極短（＜0.01s），氧化反應的時間需2-3s。

3、提供的UV光子總功率不夠或者含氧量不足，會因為裂解或氧化不完全而生成一些中間副產物，從而影響凈化效率。對于高濃度大分子的有機惡臭物質體現得較為明顯。

4、UV光解凈化的長期穩定、需要反應溫度＜70℃，光氧催化，粉塵量＜100mg/m3，相對濕度＜99%。

5、條件滿足的情況下，uv光氧催化設備，UV光解凈化的凈化效率可達到99.9%以上。

光解催化設備紫外光催化技術對于某些有機化合物的部分化學鍵鍵能高于所提供的UV光子能量，如甲醛的“C=O”鍵的鍵能為728kj/mol。目前我們所提供的UV光子的能量為 704kj/mol（正在研發742kj/mol和800kj/mol）。甲醛在170nm的UV紫外光的照射下，會裂解生成游離態的[C=O]*、 H*。一部分[C=O]*與03反應生成CO2，一部分[C=O]*在經過與N2等惰性物質碰撞后失去能量，生成CO，臭氧量充足時可將部分CO氧化成CO2 。

污染物分子由引風機引入光催化區，大體要經歷紫外線光解、臭氧氧化、電子轟擊、強氧化劑-OH的氧化、正氧離子氧化等過程；從結構空間上講，污染物依次經過光觸媒催化區、紫外燈光解區、光觸媒催化區、氧化區，設計停留時間1.5s，雙層催化劑結構不但保證了催化比表面積；同時發揮了均布導流的高能，在有限的空間大限度保證空間上和紫外線無極燈的充分接觸，增加和提高活性粒子和污染物的接觸機會和時間。