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供應(yīng)電磁膜fpc排線屏蔽膜fpc排線黑色覆蓋膜fpc
供應(yīng)電磁膜fpc排線屏蔽膜fpc排線黑色覆蓋膜fpc 價(jià)格:  元(人民幣) 產(chǎn)地:本地
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東莞市利旺包裝材料有限公司  
經(jīng)營(yíng)模式:其他 公司類型:生產(chǎn)加工
所屬行業(yè):電器包裝 主要客戶:全國(guó)
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詳細(xì)介紹

加工定制是
品牌恒信恒業(yè)
型號(hào)13602670428
基材銅
層數(shù)雙面
產(chǎn)品類別熱銷
加工工藝電解箔
增強(qiáng)材料玻纖布基
絕緣層厚度薄型板
絕緣材料有機(jī)樹脂
絕緣樹脂聚酰亞胺樹脂(pi)
營(yíng)銷類別特價(jià)
營(yíng)銷方式廠家直銷
阻燃特性vo板
展開
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pc名片
fpc是flexible printed circuit的簡(jiǎn)稱,又稱軟性線路板、柔性印刷電路板,撓性線路板,簡(jiǎn)稱軟板或fpc,具有配線密度高、重量輕、厚度薄的特點(diǎn),主要使用在手機(jī)、筆記本電腦、pda、數(shù)碼相機(jī)、lcm等很多產(chǎn)品。
目錄
fpc特點(diǎn) fpc生產(chǎn)流程 fpc制程要點(diǎn) fpc貼裝工藝要求和注意事項(xiàng)
fpc特點(diǎn)
1.可自由彎曲、折疊、卷繞,可在三維空間隨意移動(dòng)及伸縮。
2.散熱性能好,可利用f-pc縮小體積。
3.實(shí)現(xiàn)輕量化、小型化、薄型化,從而達(dá)到元件裝置和導(dǎo)線連接一體化。
fpc生產(chǎn)流程
1. fpc生產(chǎn)流程:
1.1 雙面板制程:
開料→ 鉆孔→ pth → 電鍍→ 前處理→ 貼干膜 → 對(duì)位→曝光→ 顯影 → 圖形電鍍 → 脫膜 → 前處理→ 貼干膜 →對(duì)位曝光→ 顯影 →蝕刻 → 脫膜→ 表面處理 → 貼覆蓋膜 → 壓制 → 固化→ 沉鎳金→ 印字符→ 剪切→ 電測(cè) → 沖切→ 終檢→包裝 → 出貨
1.2 單面板制程:
開料→ 鉆孔→貼干膜 → 對(duì)位→曝光→ 顯影 →蝕刻 → 脫膜→ 表面處理 → 貼覆蓋膜 → 壓制 → 固化→表面處理→沉鎳金→ 印字符→ 剪切→ 電測(cè) → 沖切→ 終檢→包裝 → 出貨
2. 開料
2.1. 原材料編碼的認(rèn)識(shí)
ndir050513hjy: d→雙面, r→ 壓延銅, 05→pi厚0.5mil,即12.5um, 05→銅厚 18um, 13→膠層厚13um.
xsie101020tlc: s→單面, e→電解銅, 10→pi厚25um, 10→銅厚度35um, 20→膠厚20um.
ci0512nl:(覆蓋膜) :05→pi厚12.5um, 12→膠厚度12.5um. 總厚度:25um.
2.2.制程品質(zhì)控制
a.操作者應(yīng)帶手套和指套,防止銅箔表面因接觸手上之汗而氧化.
b.正確的架料方式,防止皺折.
c.不可裁偏,手對(duì)裁時(shí)不可破壞沖制定位孔和測(cè)試孔.
d.材料品質(zhì),材料表面不可有皺折,污點(diǎn),重氧化現(xiàn)象,所裁切材料不可有毛邊,溢膠等.
3鉆孔
3.1打包: 選擇蓋板→組板→膠帶粘合→打箭頭(記號(hào))
3.1.1打包要求: 單面板 30張 ,雙面板 6張 , 包封15張.
3.1.2蓋板主要作用:
a: 防止鉆機(jī)和壓力腳在材料面上造成的壓傷
b::使鉆尖中心容易定位避免鉆孔位置的偏斜
c:帶走鉆頭與孔壁摩擦產(chǎn)生的熱量.減少鉆頭的扭斷.
3.2鉆孔:
3.2.1流程: 開機(jī)→上板→調(diào)入程序→設(shè)置參數(shù)→鉆孔→自檢→ipqa檢→量產(chǎn)→轉(zhuǎn)下工序.
3.2.2. 鉆針管制方法:a. 使用次數(shù)管制 b. 新鉆頭之辨認(rèn),檢驗(yàn)方法
3.3. 品質(zhì)管控點(diǎn): a.鉆帶的正確 b.對(duì)紅膠片,確認(rèn)孔位置,數(shù)量,正確. c確認(rèn)孔是否完全導(dǎo)通. d. 外觀不可有銅翹,毛邊等不良現(xiàn)象.
3.4.常見不良現(xiàn)象
3.4.1斷針: a.鉆機(jī)操作不當(dāng) b.鉆頭存有問(wèn)題 c.進(jìn)刀太快等.
3.4.2毛邊 a.蓋板,墊板不正確 b.靜電吸附等等
4.電鍍
4.1.pth原理及作用: pth即在不外加電流的情況下,通過(guò)鍍液的自催化(鈀和銅原子作為催化劑)氧化還原反應(yīng),使銅離子析鍍?cè)诮?jīng)過(guò)活化處理的孔壁及銅箔表面上的過(guò)程,也稱為化學(xué)鍍銅或自催化鍍銅.
4.2.pht流程: 堿除油→水洗→微蝕→水洗→水洗→預(yù)浸→活化→水洗→水洗→速化→水洗→水洗→化學(xué)銅→水洗.
4.3.pth常見不良狀況之處理
4.3.1.孔無(wú)銅 :a活化鈀吸附沉積不好. b速化槽:速化劑濃度不對(duì). c化學(xué)銅:溫度過(guò)低,使反應(yīng)不能進(jìn)行反應(yīng)速度過(guò)慢;槽液成分不對(duì).
4.3.2.孔壁有顆粒,粗糙: a化學(xué)槽有顆粒,銅粉沉積不均,開過(guò)濾機(jī)過(guò)濾. b板材本身孔壁有毛刺.
4.3.3.板面發(fā)黑: a化學(xué)槽成分不對(duì)(naoh濃度過(guò)高).
4.4鍍銅 鍍銅即提高孔內(nèi)鍍層均勻性,保證整個(gè)版面(孔內(nèi)及孔口附近的整個(gè)鍍層)鍍層厚度達(dá)到一定的要求.
4.4.1電鍍條件控制
a電流密度的選擇
b電鍍面積的大小
c鍍層厚度要求
d電鍍時(shí)間控制
4.4.1品質(zhì)管控 1 貫通性:自檢qc全檢,以40倍放大鏡檢查孔壁是否有鍍銅完全附著貫通.
2 表面品質(zhì):銅箔表面不可有燒焦,脫皮,顆粒狀,針孔及花斑不良等現(xiàn)象.
3 附著性:于板邊任一處以3m膠帶粘貼后,以垂直向上接起不可有脫落現(xiàn)象.
5.線路
5.1干膜 干膜貼在板材上,經(jīng)曝光后顯影后,使線路基本成型,在此過(guò)程中干膜主要起到了影象轉(zhuǎn)移的功能,而且在蝕刻的過(guò)程中起到保護(hù)線路的作用.
5.2干膜主要構(gòu)成:pe,感光阻劑,pet .其中pe和pet只起到了保護(hù)和隔離的作用.感光阻劑包括:連接劑,起始劑,單體,粘著促進(jìn)劑,色料.
5.3作業(yè)要求 a保持干膜和板面的清潔, b平整度,無(wú)氣泡和皺折現(xiàn)象.. c附著力達(dá)到要求,密合度高.
5.4作業(yè)品質(zhì)控制要點(diǎn)
5.4.1為了防止貼膜時(shí)出現(xiàn)斷線現(xiàn)象,應(yīng)先用無(wú)塵紙粘塵滾輪除去銅箔表面雜質(zhì).
5.4.2應(yīng)根據(jù)不同板材設(shè)置加熱滾輪的溫度,壓力,轉(zhuǎn)數(shù)等參數(shù).
5.4.3保證銅箔的方向孔在同一方位.
5.4.4防止氧化,不要直接接觸銅箔表面.
5.4.5加熱滾輪上不應(yīng)該有傷痕,以防止產(chǎn)生皺折和附著性不良
5.4.6貼膜后留置10—20分鐘,然后再去曝光,時(shí)間太短會(huì)使發(fā)生的有機(jī)聚合反應(yīng)未完全,太長(zhǎng)則不容易被水解,發(fā)生殘留導(dǎo)致鍍層不良.
5.4.7經(jīng)常用無(wú)塵紙擦去加熱滾輪上的雜質(zhì)和溢膠.
5.4.8要保證貼膜的良好附著性.
5.5貼干膜品質(zhì)確認(rèn)
5.5.1附著性:貼膜后經(jīng)曝光顯影后線路不可彎曲變形或斷等(以放大鏡檢測(cè))
5.5.2平整性:須平整,不可有皺折,氣泡.
5.5.3清潔性:每張不得有超過(guò)5點(diǎn)之雜質(zhì).
5.6曝光
5.6.1.原理:使線路通過(guò)干膜的作用轉(zhuǎn)移到板子上.
5.6.2作業(yè)要點(diǎn): a作業(yè)時(shí)要保持底片和板子的清潔.
b底片與板子應(yīng)對(duì)準(zhǔn),正確.
c不可有氣泡,雜質(zhì).
*進(jìn)行抽真空目的:提高底片與干膜接觸的緊密度減少散光現(xiàn)象.
*曝光能量的高低對(duì)品質(zhì)也有影響:
1能量低,曝光不足,顯像后阻劑太軟,色澤灰暗,蝕刻時(shí)阻劑破壞或浮起,造成線路的斷路.
2.能量高,則會(huì)造成曝光過(guò)度,則線路會(huì)縮小或曝光區(qū)易洗掉.
5.7顯影
5.7.1原理:顯像即是將已經(jīng)曝過(guò)光的帶干膜的板材,經(jīng)過(guò)(1.0+/-0.1)[%]的碳酸鈉溶液(即顯影液)的處理,將未曝光的干膜洗去而保留經(jīng)曝光發(fā)生聚合反應(yīng)的干膜,使線路基本成型.
5.7.2影響顯像作業(yè)品質(zhì)的因素: a﹑顯影液的組成 b﹑顯影溫度. c﹑顯影壓力. d﹑顯影液分布的均勻性.e﹑機(jī)臺(tái)轉(zhuǎn)動(dòng)的速度.
5.7.3制程參數(shù)管控:藥液溶度,顯影溫度,顯影速度,噴壓.
5.7.4顯影品質(zhì)控制要點(diǎn):
a﹑出料口扳子上不應(yīng)有水滴,應(yīng)吹干凈.
b﹑不可以有未撕的干膜保護(hù)膜.
c﹑顯像應(yīng)該完整,線路不可鋸齒狀,彎曲,變細(xì)等狀況.
d﹑顯像后裸銅面用刀輕刮不可有干膜脫落,否則會(huì)影響時(shí)刻品質(zhì).
e﹑干膜線寬與底片線寬控制在+/-0.05mm以內(nèi)的誤差.
f﹑線路復(fù)雜的一面朝下放置,以避免膜渣殘留,減少水池效應(yīng)引起的顯影不均.
g﹑根據(jù)碳酸鈉的溶度,生產(chǎn)面積和使用時(shí)間來(lái)及時(shí)更新影液,保證的顯影效果.
h﹑應(yīng)定期清洗槽內(nèi)和噴管,噴頭中之水垢,防止雜質(zhì)污染板材和造成顯影液分布不均勻性.
i﹑防止操作中產(chǎn)生卡板,卡板時(shí)應(yīng)停轉(zhuǎn)動(dòng)裝置,立即停止放板,并拿出板材送至顯影臺(tái)中間,如未完全顯影,應(yīng)進(jìn)行二次顯影.
j﹑顯影吹干后之板子應(yīng)有綠膠片隔開,防止干膜粘連而影響到時(shí)刻品質(zhì).
5.8蝕刻脫膜
5.8.1原理:蝕刻是在一定的溫度條件下(45—50)℃蝕刻藥液經(jīng)過(guò)噴頭均勻噴淋到銅箔的表面,與沒有蝕刻阻劑保護(hù)的銅發(fā)生氧化還原反應(yīng),而將不需要的銅反應(yīng)掉,露出基材再經(jīng)過(guò)脫膜處理后使線路成形.
5.8.2蝕刻藥液的主要成分:酸性蝕刻子液(氯化銅),雙氧水,鹽酸,軟水
5.9蝕刻品質(zhì)控制要點(diǎn):
5.9.1以透光方式檢查不可有殘銅, 皺折劃傷等
5.9.2線路不可變形,無(wú)水滴.
5.9.3時(shí)刻速度應(yīng)適當(dāng),不允收出現(xiàn)蝕刻過(guò)度而引起的線路變細(xì),和蝕刻不盡.
5.9.4線路焊點(diǎn)上之干膜不得被沖刷分離或斷裂
5.9.5時(shí)刻剝膜后之板材不允許有油污,雜質(zhì),銅皮翹起等不良品質(zhì)。
5.9.6放板應(yīng)注意避免卡板,防止氧化。
5.9.7應(yīng)保證時(shí)刻藥液分布的均勻,以避免造成正反面或同一面的不同部分蝕刻不均勻。
5.9.8制程管控參數(shù):
蝕刻藥水溫度:45+/-5℃ 剝膜藥液溫度﹕ 55+/-5℃ 蝕刻溫度45—50℃
烘干溫度﹕75+/-5℃ 前后板間距﹕5~10cm
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