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適用范圍

適用范圍：五金廠、食品廠、煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾轉運站等惡臭氣體的脫臭凈化處理。

UV光解活性炭一體凈化器原理

1）本產品利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射工業廢氣，裂解惡臭/工業廢氣如：氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯等的分子鏈結構，使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線光束照射下，降解轉變成低分子化合物，如CO2、H2O等。

2）利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產生游離氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合，進而產生臭氧。UV＋O2→O-+O＊(游離氧)O+O2→O3(臭氧),眾所周知臭氧對有機物具有極強的氧化作用，對工業廢氣及其它刺激性異味有立竿見影的清除效果。

3）惡臭/工業廢氣利用排風設備引入到本凈化設備后，凈化設備運用高能UV紫外線光束及臭氧對工業廢氣進行協同分解氧化反應，使工業廢氣物質其降解轉化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風管道排出室外。

4）利用高能UV光束裂解工業廢氣中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸（DNA），再通過臭氧進行氧化反應，徹底達到脫臭及殺滅細菌的目的。

5）利用活性炭吸附能力及阻力，使惡臭氣體停留時間加長，更有效的處理惡臭氣體

半導體光催化劑大多是n型半導體材料(當前以TiO2使用最廣泛)，具有區別于金屬或絕緣物質的特別的能帶結構，即在價帶和導帶之間存在一個禁帶。由于半導體的光吸收閾值與帶隙具有公式K=1240/Eg(eV)的關系，因此常用的寬帶隙半導體的吸收波長閾值大都在紫外區域。在光照下，如果光子的能量大于半導體禁帶寬度，其價帶上的電子(e-)就會被激發到導帶上，同時在價帶上產生空穴(h+)。當存在合適的俘獲劑、表面缺陷或者其他因素時，電子和空穴的復合得到抑制，就會在催化劑表面發生氧化—還原反應。價帶空穴是良好的氧化劑，導帶電子是良好的還原劑，在半導體光催化反應中，一般與表面吸附的H2O、O2反應生成˙OH和超氧離子O2-，能夠把各種有機物直接氧化成CO2、H2O等無機小分子，電子也具有強還原性，可以還原吸附在其表面的物質。激發態的導帶電子和價帶空穴能重新合并，并產生熱能或其他形式散發掉。

光催化是指在光的作用下進行的化學反應。光化學反應需要分子吸收特定波長的電磁輻射，受激產生分子激發態，繼而發生化學反應生成新的物質或變成引發熱反應的中間化學產物。光催化劑是指在光的照射下，自身不起變化，卻可以促進化學反應的物質。它利用光能轉化成化學反應所需的能量，產生催化作用，使周圍的氧氣及水分子激發成極具氧化力的自由基或負離子。

光催化氧化分為均相光催化氧化和非均相光催化氧化。均相光催化氧化主要為UV/Fenton試劑法。Fenton試劑為Fe2+和H2O2的組合，其氧化機理為Fe2++H2O2→˙OH+OH-+Fe3+Fe3++H2O2→Fe2++˙HO2+H+，因此Fenton試劑在水處理中具有氧化和混凝兩種作用，在黑暗中就能降解有機物，節省了設備投資，然而H2O2利用率不高，不能充分礦化有機物。當有光輻射(如紫外光)時，Fenton試劑氧化性顯著提高。UV/Fenton法也叫光助Fenton法，是普通Fenton法與UV/H2O2兩種系統的復合產物，降低Fe2+用量的同時保持H2O2較高的利用率，而UV和Fe2+對H2O2的催化分解存在協同效應，˙OH的生成速率遠大于傳統Fenton法和紫外催化分解H2O2速率的簡單加和。因此UV/Fenton試劑法在處理難降解有機污染物時具有獨特的優勢，很有應用前景。

為使光催化劑具有合適的形狀、尺寸和機械強度以符合工業反應器的操作要求，光催化劑需要載體以支持活性組分，使化劑具有特定的物理性狀。光催化劑載體要能改善所擔載的物質的組織結構(如增加孔隙、表面積等)，有利于光催化劑再生。良好的光催化劑載體應具有以下特點：良好的透光性;在不影響光催化活性的前提下，與TiO2顆粒間具有較強的結合力;比表面積大;對被降解的污染物有較強的吸附性;易于固液分離;有利于固—液傳質;化學惰性和光穩定性;材料易得，價格低廉。