| PECVD開啟式真空管式爐 |
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價格：1 元(人民幣) | 產地：江蘇蘇州 |
| 最少起訂量：1臺 | 發貨地：蘇州昆山開發區六時涇路28號 | |
| 上架時間：2018-04-17 09:29:17 | 瀏覽量：714 | |
蘇州諾曼比爾材料科技有限公司
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| 經營模式：生產加工 | 公司類型：私營有限責任公司 | |
| 所屬行業：鑄造設備 | 主要客戶：科研單位、大專院校、新材料、新能源、物理、化學、冶金、玻璃、鋰能等領域 | |
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PECVD
設備介紹： 本設備是借助射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。為了使化學反應能在較低的溫度下進行，利用了等離子體的活性來促進反應，因而這種CVD稱為等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)。 主要特點： 1、通過射頻電源把石英真空室內的氣體變為離子態。 2、PECVD比普通CVD進行化學氣相沉積所需的溫度更低。 3、可以通過射頻電源的頻率來控制所沉積薄膜的應力大小。 4、PECVD比普通CVD進行化學氣相沉積速率高、均勻性好、一致性和穩定性高。 5、廣泛應用于：各種薄膜的生長，如：SiOx, SiNx, SiOxNy 和無定型硅(a-Si:H) 等。
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