1.裝置要求：

?工藝要求：

額定處理氣量：30~3000Nm³/h

?氫氣經干燥后雜質含量應控制為：

H₂≥99.99%?

水氣（H₂O）≦-65℃

粉塵：氫氣干燥后，要求加絲網目≦0.1μ的過濾器。

所有電器元件防爆等級為EXDII CT4 ，采用正壓防爆柜。????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????

2.適用標準、規范

GB3863《工業用氣態氧》 ????????????????????????????

GB3864《工業氫氣》 ???????????????????????

GB4962《氫氣使用安全技術規程》

GB50177《氫氧站設計規范》

GB50058《爆炸和火災危險環境電力裝置設計規范》

GB7251《低壓成套開關柜》

GB150《鋼制壓力容器》

GB151《鋼制管殼式換熱器》

《鋼制壓力容器安全技術監察規程》

?3.原理：

氫氣干燥裝置以普氫氣為原料（含飽和水），冷采用卻冷凝法和13X分子篩吸附干燥法兩級去濕除水和除二氧化碳，經精密過濾器高效除塵，獲得高純度氫氣。

?4.工藝流程

原料氫→冷凝→吸附干燥→過濾→純氫

原料氫氣進入冷凝器，利用冷凝器將游離水排放出來，其余的水將隨氫氣進入吸附干燥器，被分子篩吸附掉，同時吸附掉二氧化碳。經過純化處理后的干燥氫氣通過精密過濾器高效除塵，從而獲得純度較高的氫氣。

5.?用途

????氫氣是主要的工業原料，也是最重要的工業氣體和特種氣體，本公司凈化設備能把工業瓶裝氫氣凈化得到高純氫、超高純氫。高純氫氣廣泛應用于石油化工、電子工業、電子半導體、冶金工業、機械、食品加工、浮法玻璃、高純材料和光電材料等產業部門和科學研究中、生產部門亦可作為熱處理保護氣體以及精細有機合成、航空航天等方面有著廣泛的應用。例如本機已在精密合金熱處理、航天航空、半導體硅材料、硅外延、化合物半導體等的生產中的應用，效果都很好。

????歡迎新老用戶選擇我公司產品：氫氣干燥裝置，氣體干燥裝置，氫氣干燥機，無熱再生氣體干燥裝置，吸附式氫氣干燥裝置，常壓氫氣干燥裝置，中壓氫氣干燥裝置。