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高純氬氣凈化機(jī)

裝置說明：

原料氬為工業(yè)普氬時，其純化工藝為，采用非蒸散型吸氣劑為凈化劑，在一定溫度下，吸氣劑可將普氬氣中的O2、N2、H2、CO、CO2、CH4等雜質(zhì)形成穩(wěn)定的化合物或固溶體，從而達(dá)到對氬氣精制的目的。本裝置凈化器采用特殊結(jié)構(gòu)，具有接觸面積大、阻力小、凈化效率高、熱功率損耗小等優(yōu)點(diǎn)。本裝置吸附干燥器對氬氣進(jìn)行深度脫水，可與區(qū)熔硅晶爐配套使用可用于激光器、濺射、半導(dǎo)體生產(chǎn)，氣相色譜儀、特殊燈泡稀有金屬加工等需要用高純氬氣的生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域。

一、技術(shù)參數(shù)：

1、處理氣量： ???????????5~500Nm?/h

2、純化后氬氣純度 ???????99.9995%

???純氬技術(shù)要求應(yīng)符合下表的規(guī)定符合：GB/T4842-2006

裝置特點(diǎn)：??

1.? 凈化則采用了世界最先進(jìn)的凈化材料。其特點(diǎn)有吸附深度好，吸收雜質(zhì)氣體量大的特點(diǎn)，最高純度可達(dá)99.9999%以上。
2.? 并在最后安裝了小于0.1μ的金屬過濾器。保證了氣體粉末的要求。

3.? 本裝置的閥門采用國內(nèi)外專業(yè)閥門公司的優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品，保證了產(chǎn)品的高純度無滲透及安全可靠性。
4.? 設(shè)備中全部容器、管道、閥門均為不銹鋼材質(zhì)。
5.? 設(shè)備中全部選用我公司跟蹤國際先進(jìn)水平而研制的凈化材料，具有凈化深度好、安全可靠、可反復(fù)再生的特點(diǎn)。
6.? 設(shè)備中的主要控制儀表全部采用國內(nèi)外先進(jìn)產(chǎn)品。
7.? 接頭采用先進(jìn)的高純接頭,保證了無滲透。
8.? 外觀設(shè)計采用國際流行顏色及形式,使產(chǎn)品更美觀。
9.? 設(shè)備可以在線加裝微氧分析儀和微量水分析儀使凈化后氣體得到監(jiān)測。避免了因設(shè)備問題的損失。
10. 本設(shè)備具有體積小,操作簡便,能耗小,安全可靠的特點(diǎn)。無須頻繁再生及再生無須加氫的特點(diǎn)。
11. 本設(shè)備在金屬保護(hù)行業(yè)、電子、電光源、科研、氣體、分析、醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域以及光譜儀、氣相色譜儀、科學(xué)儀器等的配套使用設(shè)備，得到了廣泛的應(yīng)用。
12. 另外，我公司還可以根據(jù)用戶的不同需求，定制5 m3/h～500 m3/h的大凈化流量高純氣體凈化器。詳情請來電垂詢，歡迎訂購。
13. 可根據(jù)用戶的要求對設(shè)備進(jìn)行再設(shè)計，如加裝水分儀和全自動設(shè)備（價格另議）???????????設(shè)備加裝微氧分析儀使凈化后氣體得到監(jiān)測。避免了因設(shè)備問題的損失。本設(shè)備具有體積小，操作簡便，能耗小，安全可靠的特點(diǎn)。無需頻繁再生及再生無須加氫的特點(diǎn)。

★?：本公司也可根據(jù)客戶要求，直接做高壓的，這樣就可省掉使用模壓機(jī)增壓工序。

高純氬氣主要用途：用于焊接、不銹鋼制造、冶煉，還用于半導(dǎo)體制造工藝中的化學(xué)氣相淀積、晶體生長、熱氧化、外延、擴(kuò)散、多晶硅、鎢化、離子注入、載流、燒結(jié)等氬氣作為制作單晶及多晶硅的保護(hù)氣，為了提高硅晶體的質(zhì)量，如何選用較高純度的氬氣，是制作硅晶體的一個議題。 氬氣純化裝置是針對需要使用超高純度氬氣的客戶而設(shè)計的。

歡迎新老用戶選擇我公司產(chǎn)品：氬氣凈化機(jī)，氬氣凈化器，高純氬氣凈化，高純氬氣凈化設(shè)備，高純氬氣純化設(shè)備，高純氬氣純化裝置，YAC系列氬氣凈化設(shè)備，全自動氬氣純化設(shè)備，大型氬氣凈化設(shè)備，硅材料行業(yè)用氬氣凈化設(shè)備，硅材料用除氧、除水氬氣純化裝置,氣站專用氬氣凈化設(shè)備，氣站專用氬氣純化器，氣站用高純氬設(shè)備,單晶硅行業(yè)用氬氣除氧、干燥設(shè)備，多晶硅行業(yè)用氬氣除氧、干燥設(shè)備,高純氬氣提純設(shè)備，鎢化氬氣提純機(jī),多晶硅氬氣過濾器，氬氣純化裝置價格，氬氣純化裝置廠家，氬氣純化裝置哪家最好。

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