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近日，由中科院長春光機所承擔的重大科研裝備研制項目”大型高精度衍射光柵刻劃的研制”順利通過驗收這標志著我國大面積高精度光柵制造中的相關技術已達到水平，結束了我國在高精度大尺寸光柵制造領域受制于人的局面。衍射光柵（以下簡稱光柵）是一種具有納米精度周期性微結構的精密光學元件。它作為核心色散單元器件，在光譜學、天文學、激光器、光通訊等諸多領域中具有重要應用價值。光柵面積大可高集光率和分辨本領，精度高可更好的信噪比，但同時將光柵”做大”和”做精”屬于性難題。我國戰略高技術領域所需要的高精度大尺寸光柵受到國外嚴格。隨著科學技術的發展，大面積高精度中階梯光柵已經成為制約我國相關領域技術發展的”短板”，此類光柵研制也是各光柵強國之間展開競爭的焦點。2008年，在科學院和共同支持下，長春光機所開始”大型高精度衍射光柵刻劃”的研制工作，目標為研制一臺刻劃面積屬之、技術水平達的大型高精度衍射光柵刻劃機，突破精密機械加工、精密光學加工、精密檢測、高精度微位移控制等一系列關鍵技術，并研制出面積達400毫米×500毫米的中階梯光柵。光柵刻劃機是制作光柵的母機，因部件的加工裝調精度之難、運行保障要求之高，被譽為”精密機械”。本項目研制的光柵刻劃機，幾乎所有關鍵部件都沖擊”極限”水平研制期間，項目組突破了一系列核心高精度零件的加工制造技術。