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主要技術(shù)參數(shù)

2.1、上下盤尺寸（外徑×內(nèi)徑×厚度）：Φ1150mm×Φ530mm×50mm

2.2、游星輪規(guī)格：????? ??DP12?? Z=147? α=20°

2.3、游星輪數(shù)量：?? ?????5個(gè)

2.4、最小加工厚度：???? ?0.20mm

2.5、下盤轉(zhuǎn)速：????? ????0～50rpm

2.6、主電機(jī)：???????? ???7.5kW? AC380V ?1460rpm

2.7、氣源壓力:?????????? 0.5-0.6MPa

2.8、設(shè)備外形尺寸：???? ?1800mm×1300mm×2800mm

2.9、設(shè)備質(zhì)量：????? ????約3000kg

設(shè)備的安裝及使用條件

4.1、設(shè)備箱體上裝有四個(gè)起吊柱，專門用于設(shè)備搬運(yùn)時(shí)吊裝，設(shè)備應(yīng)安裝在地面平坦，遠(yuǎn)離振動(dòng)源，無灰塵煙霧污染的場所。

??? 設(shè)備安裝的條件為：

????? a、溫度10℃-25℃

????? b、相對濕度≤95

????? c、電源電壓380±38V（三相五線制）

????? d、壓縮空氣源 0.5-0.6MPa

4.2、設(shè)備可直接放在地板上，調(diào)整六個(gè)地腳螺栓可校正設(shè)備的水平，校正時(shí)，用水平儀在下拋盤上檢測（即在相互垂直的兩個(gè)方向上檢測、校正），其水平應(yīng)調(diào)至0.06/1000mm。

整機(jī)精度指標(biāo)

5.1、上下拋光盤平面度：≤0.02mm

5.2、下拋光盤端面跳動(dòng)允差：≤0.06mm

用途和特點(diǎn)

1.1、本設(shè)備主要用于光學(xué)玻璃、陶瓷、電子材料及硅、鍺、計(jì)算機(jī)磁盤等金屬、非金屬硬脆材料的雙面高精度研磨加工。

1.2、整機(jī)采用龍門結(jié)構(gòu)，主體采用箱形結(jié)構(gòu)，整體穩(wěn)定性高，剛性好。

1.3、本機(jī)可以對兩平行平面的玻璃晶片或其它機(jī)械零件進(jìn)行雙面高精度研磨加工，特別是薄脆性材料的加工，由于采用對工件非強(qiáng)制約束方式，因此在研磨過程中零件不易破損。

1.4、該研磨機(jī)加壓系統(tǒng)分成輕壓研磨、 中壓研磨和重壓研磨和修正（輕壓）四個(gè)壓力段，能適應(yīng)較廣泛的各類用戶研磨各種零件。

1.5、本設(shè)備上研磨盤快升、快降、緩升、緩降集中于同一個(gè)手柄上，操作方便

采用三相交流異步電機(jī)，變頻調(diào)速，起動(dòng)及停車平穩(wěn)，無沖擊。

1.6設(shè)備采用計(jì)數(shù)程序控制，也可采用時(shí)間控制，還可測頻儀控制。到預(yù)測目標(biāo)值屆時(shí)自動(dòng)停車。因此，一人可同時(shí)操作多臺(tái)機(jī)器。

1.7、本設(shè)備電氣通過PLC控制，四行文本顯示器顯示。

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雙面研磨機(jī)的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)如下：

1.系列雙面研磨機(jī)運(yùn)行采用四臺(tái)電機(jī)驅(qū)動(dòng)，可以給上研磨盤、下研磨盤、齒圈、太陽輪單獨(dú)進(jìn)行調(diào)速，使研磨達(dá)到最理想的轉(zhuǎn)速比，其太陽輪相對與其它三個(gè)轉(zhuǎn)速的速比可作無級調(diào)速，使游輪可實(shí)現(xiàn)正轉(zhuǎn)、反轉(zhuǎn)，滿足了不同研磨及修盤工藝的需求。

2.雙面研磨機(jī)采用PLC程控系統(tǒng)，觸摸屏操作面板，電機(jī)采用變頻調(diào)速，電機(jī)轉(zhuǎn)速與運(yùn)行時(shí)間可直接輸入觸摸屏。

3.研磨機(jī)采用四段壓力，即輕壓、中壓、重壓、修研的運(yùn)行過程。

4.雙面研磨機(jī)為下研磨盤升降方式，下研磨盤的高低位置可在總行程范圍內(nèi)隨意停留自鎖，以滿足改變游輪嚙合高低位置的需要。

5.可根據(jù)用戶要求增加光柵厚度控制系統(tǒng)，加工后的產(chǎn)品厚度公差可控制在±0.002mm范圍內(nèi);平面度公差可控制在±0.001mm范圍內(nèi)。

當(dāng)雙面研磨機(jī)的上下研

磨盤工作一段時(shí)間后，研磨盤會(huì)受到一定程度的損傷了，為了保證研磨盤的表面精度加工能力，我司為雙面研磨機(jī)增加了可以對上下研磨盤進(jìn)行修正的修面機(jī)或修正輪。

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