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詳情 楊經理 18103045976

二，主要技術指標：

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UPS射頻源，精控，，光學膜厚儀監控波長范圍：400-1100nm，波長精度：

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三，主要功能：

主要用于可見~短波紅外波段光學增透膜、高反膜、截止濾光片，窄帶、超窄帶、極窄帶濾光片等光學薄膜蒸鍍，配備兩把電子和等離子體輔助源，一次可蒸鍍多片不同尺寸（1寸、2寸、3寸、4寸、5寸、6寸、8寸、40mm*40mm等）的樣品。

六，真空蒸發鍍膜原理

1.1?將膜材置于真空鍍膜室內 ， 通過蒸發源使其加熱蒸發 。 當蒸發分子的平均自由程大于蒸發源與基片間的線尺寸后 ， 蒸發的粒子從蒸發源表面上逸出 ， 在飛向基片表面過程中很少受到其他粒子 （ 主要是殘余氣體分子）的碰撞阻礙，可直接到達基片表面上凝結而生成薄膜。

1.2 真空鍍膜特點

真空蒸鍍法優點：設備比較簡單 、操作容易；制成的薄膜純度高 、質量好，厚度可較準確控制；成膜速率快，效率高；薄膜的生長機理比較簡單；

缺點：不容易獲得結晶結構的薄膜；所形成的薄膜在基板上的附著力較小；工藝重復性不夠好等。

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