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二手新柯隆磁控濺射鍍膜機RAS-1100C\/多層反射膜靶材真空電鍍機轉(zhuǎn)讓
二手新柯隆磁控濺射鍍膜機RAS-1100C\/多層反射膜靶材真空電鍍機轉(zhuǎn)讓 價格:1.25  元(人民幣) 產(chǎn)地:廣東東莞
最少起訂量:1 發(fā)貨地:廣東東莞
上架時間:2025-05-08 02:41:39 瀏覽量:24
東莞市宏誠光學(xué)制品有限公司  
經(jīng)營模式:生產(chǎn)加工 公司類型:其他有限責(zé)任公司
所屬行業(yè):研磨機 主要客戶:光學(xué)行業(yè)
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詳細介紹

產(chǎn)品參數(shù)
二手新柯隆磁控濺射鍍膜機RAS-1100C/多層反射膜靶材真空電鍍機轉(zhuǎn)讓 產(chǎn)品特性磁控電鍍機
新舊程度9成新
設(shè)備所在地東莞
設(shè)備生產(chǎn)產(chǎn)地日本
產(chǎn)品數(shù)量3
可售賣地全國
型號RAS-1100C

二手新科隆濺射鍍膜機RAS-1100C是一款受到市場認可的鍍膜設(shè)備。它基于真空蒸鍍原理工作,能在真空中將膜料加熱蒸發(fā),并在基片表面凝結(jié)形成薄膜,具有高精度、高穩(wěn)定性和高重復(fù)性等優(yōu)點,適合科研機構(gòu)、大學(xué)、企業(yè)進行材料科學(xué)研究、器件制造及表面處理等工作。成色如圖,功能完好無維修。適合各種鍍膜需求,穩(wěn)定可靠。提供詳細設(shè)備參數(shù)和運行說明,有任何問題歡迎咨詢。支持上門看貨或視頻看貨,外地協(xié)商發(fā)貨方式。有專業(yè)技術(shù)團隊上門安裝調(diào)試培訓(xùn)教工藝等服務(wù),快進快出銷售,價格全市場做到優(yōu)勢,誠心要的老板私聊技術(shù)楊經(jīng)理181-030-45976#專業(yè)真空電鍍機#磁控濺射電鍍機#蒸發(fā)電鍍機#多弧電鍍機

一、磁控濺射鍍膜工藝流程:

1. 準(zhǔn)備工作:

在進行磁控濺射鍍膜之前,首先需要進行準(zhǔn)備工作。包括清洗基材、安裝目標(biāo)材料、安裝濺射靶材料、設(shè)置真空系統(tǒng)、調(diào)試設(shè)備等。確保工藝設(shè)備的正常運行和有效的材料供應(yīng)。

2. 抽真空:

啟動真空設(shè)備,將鍍膜室內(nèi)的氣體抽取出來,以創(chuàng)建一定的真空環(huán)境。通常需要將氣體抽取至達到良好的真空度,以避免氧氣等雜質(zhì)對鍍膜過程的影響。

3. 加載基材:

將待鍍膜的基材放置于鍍膜室中,通常在基材表面經(jīng)過預(yù)處理,如清洗去除表面的污垢,以提供一個良好的鍍膜基礎(chǔ)。? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? 4. 靶材預(yù)處理:

靶材是用來提供鍍膜材料的源頭,通常需要經(jīng)過靶材的清洗、拋光等預(yù)處理工序,確保靶材表面干凈、光滑,并增加靶材的壽命和鍍膜質(zhì)量。

5. 設(shè)置基材和靶材的相對位置:

在鍍膜室中設(shè)置基材和靶材之間的相對位置。一般采用夾具或旋轉(zhuǎn)臺等裝置來控制基材和靶材的距離和角度,以實現(xiàn)均勻的鍍膜效果。

6. 開始濺射鍍膜:

通過施加一定的電壓和電流,激活靶材,使其表面的材料被離子化。離子化的材料會在真空環(huán)境中以高速運動,并沉積在基材的表面上,形成薄膜層。同時,通過磁場作用,將離子束引導(dǎo)到基材表面,以增加鍍膜的均勻性。? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?7. 控制鍍膜參數(shù):

在鍍膜過程中,需要控制多個參數(shù),包括濺射功率、工作氣體流量、濺射時間等。這些參數(shù)的調(diào)節(jié)可以影響薄膜的成分、結(jié)構(gòu)和性能。通過對這些參數(shù)的優(yōu)化,可以得到所需的薄膜材料。

8. 結(jié)束鍍膜:

鍍膜過程達到預(yù)定的條件后,停止供應(yīng)靶材的電源和氣體,完成鍍膜過程。

9. 卸載基材:

將已經(jīng)完成鍍膜的基材從鍍膜室中取出,并進行必要的后處理,如清洗、檢測等。

二、磁控濺射鍍膜工藝原理:

磁控濺射鍍膜工藝利用電弧的熱能將靶材表面的原子或分子離子化,并沉積在基材表面上,形成薄膜層。具體的工藝原理如下:

1. 靶材激活:

通過外加電壓和電流,激活靶材,使靶材表面的原子或分子離子化。通常采用直流或射頻電源提供電能,激活靶材并維持離子束的穩(wěn)定。

2. 離子束引導(dǎo):

在鍍膜室中施加一定的磁場,通過洛倫茲力將離子束引導(dǎo)到基材表面。磁場的作用可以控制離子束的運動軌跡,增加鍍膜的均勻性。

3. 碰撞與沉積:

離子束以高速運動,在基材表面碰撞并沉積。碰撞過程中,離子的能量會釋放出來,提供熱能進而使基材表面的材料溶解并沉積。? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?4. 形成薄膜:

通過重復(fù)碰撞和沉積的過程,逐漸在基材表面形成一個尺寸薄的薄膜層。這一過程可以控制鍍膜的厚度、成分和結(jié)構(gòu)。

總結(jié)起來,磁控濺射鍍膜工藝流程包括準(zhǔn)備工作、抽真空、加載基材、靶材預(yù)處理、設(shè)定相對位置、濺射鍍膜、控制鍍膜參數(shù)、結(jié)束鍍膜和卸載基材等步驟。工藝原理是利用電弧將靶材的材料離子化,并通過磁場引導(dǎo)離子束到達基材表面,形成薄膜層。這種工藝可以制備出具有高硬度、耐磨損、耐腐蝕性能的薄膜材料,廣泛應(yīng)用于表面處理和功能材料制備領(lǐng)域。



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