| 定制掩膜板-選購掩膜板-進口石英掩膜板認證企業宏誠光學 |
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價格：160.00 元(人民幣) | 產地：廣東東莞 |
| 最少起訂量：1 | 發貨地：廣東東莞 | |
| 上架時間：2025-02-12 06:20:38 | 瀏覽量：25 | |
東莞市宏誠光學制品有限公司
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| 經營模式：生產加工 | 公司類型：其他有限責任公司 | |
| 所屬行業：研磨機 | 主要客戶：光學行業 | |
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| 聯系人:劉慧萍 (先生) | 手機:13580815224 |
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工藝介紹：掩膜版(Photomask)，又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，是微電子制造中光刻工藝所使用的圖形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形，并通過曝光將圖形轉印到產品基板上。掩膜版是芯片制造過程中的圖形“底片”，用于轉移高精密電路設計，承載了圖形設計和工藝技術等知識產權信息。掩模版用于芯片的批量生產，是下游生產流程銜接的關鍵部分，是芯片精度和質量的決定因素之一（銷售技術楊經理18103045976）。 工藝能力： 電子束光刻加工(EBL):最小線寬50nm,精度可達10。 步進式光刻加工:stepper i7/i10/i12，最小線寬350nm，曝光誤差±0.1um。接觸、接近式光刻加工:MA6/BA6光刻機，最小線寬1um，曝光誤差±0.5um紫外光刻加工、無掩模光刻加工、雙面光刻加工，對準套刻尺寸:8’、6’、4’、2’以及不規則小片 應用材料：玻璃 ?石英 ?陶瓷 ?菲林 技術應用：光刻技術主要應用于半導體器件、光刻版加工、集成電路制造過程中。 ? 光掩膜石英玻璃基板的制造工藝概述 日本JGSⅠ石英玻璃材料 半體導掩膜板 技術應用：光刻技術主要應用于半導體器件、光刻版加工、集成電路制造過程中。 銷售技術楊經理：181-030-45976 ? 尺寸規格 6寸6.35厚 6寸3.81厚 300*350*5t 390*610*6t 700*800*8t 700*750*8t 800*920*8t 800*920*10t 800*960*8t 800*960*8t精拋 830*960*8t 850*1000*10t 1400*850*10t ? ? ? ? ? ? |
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