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凈化勻膠顯影機是適合半導(dǎo)體硅片的勻膠鍍膜等其用途廣泛包括適合半導(dǎo)體大型晶圓硅片,芯片,晶片,等各種膠體的工藝制版表面涂覆或光刻工藝勻膠。是集成電路及半導(dǎo)體件生產(chǎn)過程中涂復(fù)光致抗腐蝕劑的專用設(shè)備

設(shè)備中涂膠部分四個工位單片微型機控制四個工位同時工作或分別工作，即各工位的運轉(zhuǎn)單獨傳動，轉(zhuǎn)數(shù)單獨調(diào)節(jié)及單獨顯示。

為保證在涂膠工藝中不飛片，設(shè)備中吸頭和氣泵中間有四個電磁閥，同時增加一個負壓儲氣罐，保證了吸片牢固和可靠性。

設(shè)備中配有專用的空氣凈化裝置。

主要技術(shù)指標(biāo)：

主要技術(shù)指標(biāo)
顯影工位： 一個操作工位
程序時間： 顯影1—99秒 漂洗1—99秒 干燥1—99秒
旋轉(zhuǎn)器轉(zhuǎn)數(shù)： 500—8000轉(zhuǎn)/分（連續(xù)可調(diào)）
硅片直徑： Φ30—Φ75mm
凈化效果：美國聯(lián)邦標(biāo)準(zhǔn)100級凈化