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掩膜版的功能類似于傳統(tǒng)照相機的底片。制造商通常根據(jù)客戶所需要的圖形，用光刻機在原材料上光刻出 相應(yīng)的圖形，將不需要的金屬層和膠層洗去，即得到掩膜版。掩膜版的原材料掩膜版基板是制作微細光掩膜圖形的感光空白板。通過光刻制版工藝，將微米級和納米級的精細圖案刻制于基板上制作成掩膜版。掩膜版的作 用主要體現(xiàn)為利用已設(shè)計好的圖案，通過透光與非透光方式進行圖像（電路圖形）復制，從而實現(xiàn)批量生產(chǎn)。
我司專業(yè)定做掩膜版 掩模板 掩膜板 掩模版 mask 金屬掩模板 不銹鋼掩膜版 ，主要適合于高校、科研所、高科技公司的實驗室使用，也適合于工廠批量生產(chǎn)，掩模板可以應(yīng)用于電子束蒸發(fā)，熱蒸發(fā)，磁控濺射等真空鍍膜設(shè)備中，用來制備OTFT、OPV、OLED、鈣鈦礦太陽能電池，光電探測器，場效應(yīng)晶體管等各種器件圖形化薄膜和電極。由于都是定制的產(chǎn)品，具體價格需要發(fā)圖紙確認后，才能正式報價。我公司產(chǎn)品均按客戶圖紙單獨定制，退回無法再銷售，如有品質(zhì)問題，需按我司標準裁決，如超出我司標準，我們一定會以誠信為本，承擔責任（免費重做），但不承擔額外的損失，請客戶檢驗好再使用，謝謝！