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定制高精度超薄掩模版長方形MASK金屬碼盤芯片掩模板來圖激光切割
華諾激光專業(yè)定做掩膜版 mask 金屬掩模板 不銹鋼掩膜版 ，主要適合于高校、科研所、高科技公司的實(shí)驗(yàn)室使用，也適合于工廠批量生產(chǎn)，掩模板可以應(yīng)用于電子束蒸發(fā)，熱蒸發(fā)，磁控濺射等真空鍍膜設(shè)備中，用來制備OTFT、OPV、OLED、鈣鈦礦太陽能電池，光電探測器，場效應(yīng)晶體管等各種器件圖形化薄膜和電極。由于都是定制的產(chǎn)品，具體價(jià)格需要發(fā)圖紙確認(rèn)后，才能正式報(bào)價(jià)。光刻掩膜版（又稱光罩，英文為Mask Reticle），簡稱掩膜版，是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu)，再通過曝光過程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。不銹鋼掩模板是以不銹鋼材料為基板生產(chǎn)的掩模板，此掩模板的特是平整度好、精度高、金屬硬度高可以反復(fù)使用，適用于蒸鍍線路、電極、芯片層等。受高校研發(fā)部門、科研所喜愛。
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