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光刻掩膜版（又稱光罩，英文為Mask Reticle），簡稱掩膜版，是微納加工技術常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結構，再通過曝光過程將圖形信息轉移到產品基片上。

不銹鋼掩模板是以不銹鋼材料為基板生產的掩模板，此掩模板的特是平整度好、精度高、金屬硬度高可以反復使用，適用于蒸鍍線路、電極、芯片層等。受高校研發(fā)部門、科研所喜愛。

芯片掩模板用于芯片線路蒸鍍使用，優(yōu)質的材料再結合本公司多年生產經驗，制造的掩模板平整度高、精度高，利于掩模圖像的轉移，適合芯片生產廠家和高校實驗室。

掩膜版的功能類似于傳統(tǒng)照相機的底片。制造商通常根據(jù)客戶所需要的圖形，用光刻機在原材料上光刻出 相應的圖形，將不需要的金屬層和膠層洗去，即得到掩膜版。掩膜版的原材料掩膜版基板是制作微細光掩膜圖形的感光空白板。通過光刻制版工藝，將微米級和納米級的精細圖案刻制于基板上制作成掩膜版。掩膜版的作 用主要體現(xiàn)為利用已設計好的圖案，通過透光與非透光方式進行圖像（電路圖形）復制，從而實現(xiàn)批量生產。