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鑫有研光刻機(lithography)掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統
鑫有研光刻機(lithography)掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統 價格:160000.00  元(人民幣) 產地:北京北京
最少起訂量:1 發貨地:北京北京
上架時間:2023-11-03 22:44:24 瀏覽量:120
上海鑫有研電子科技有限公司  
經營模式:其他 公司類型:中外合資經營
所屬行業:專用儀器 主要客戶:各大高校,研究院及企事業單位
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品牌鑫有研








光刻機(lithography)又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統等,是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術,把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
曝光系統最核心的部件之一是紫外光源。
常見光源分為:
可見光:g線:436nm
紫外光(UV),i線:365nm
深紫外光(DUV),KrF 準分子激光:248 nm, ArF 準分子激光:193 nm
極紫外光(EUV),10 ~ 15 nm

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