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硅鉬棒長期高溫連續(xù)工作，表層膜逐漸蒸發(fā)，使硅鉬棒體從內部至表面進行熱力學物相平衡，當表面硅的濃度梯度不足以形成*低硅化物相時，發(fā)生游離鉬的氧化揮發(fā)，并在新的硅化鉬界面上形成石英玻璃保護膜，如此不斷揮發(fā)、生膜，元件則不斷的減細，直到局部小截面處超負荷燒斷失效。這主要是連續(xù)窯爐硅鉬棒的失效形式。

圓圈硅鉬棒是在實際使用特定的規(guī)格，用于局部加熱使用。表面溫度可以達到1600度，圓圈收口出距離大概5毫米，基本已經做到小距離的范圍。

硅鉬棒表層的石英玻璃膜在加熱和冷卻的熱應力過程中，由熱脹冷縮而引起的開裂、崩落、減薄，在裂紋及崩落的新表面上重新形成保護膜，該處即出現低于元件表面的凹坑，經一定次數的交替，元件表面形成直徑1～2mm，深度0.2～0.5mm 的連續(xù)麻面，后在小截面處超溫燒斷。這主要是間隙爐的失效形式。