LECO光譜儀-LECO
輝光放電光譜采用了一種低壓，非熱過程中，材料是均勻地從樣品表面的氬離子流的流。濺射的材料進行霧化和低壓等離子體放電激發的，遠離樣品表面。該技術的gds850重點加強過程控制和研發實驗室的性能研究。它提供了高度準確的散裝分析，以及成分的深度分析涂層的分析和表面處理。該儀器提供了一個光譜范圍從120到800納米，可配置多達58個通道。
LECO光譜儀-LECO
產品特點：
濺射與激發分離
具有寬動態范圍的線性校正曲線
最小化自吸收和材料再沉積
幾乎完全原子線激發
較少和較窄的發射線減少干擾
冶金歷史
校準所需的標準
低氬氣消耗
樣品自動清洗。
LECO光譜儀-LECO
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