應用介紹
【行業】semi
【設備】涂膠顯影
【用途】通過機械手在各系統間傳輸和處理，從而完成晶圓的光刻膠涂覆、固化、烘烤、顯影、堅膜等工藝
應用場景
對晶圓加工的熱盤進行多溫區同步控溫。
解決課題
1、客戶設備處在潔凈室內，柜內空間有限，需要節省空間。
2、為了保證半導體晶圓的品質(熱盤溫度不均可能導致晶圓變形等不良），需要熱盤整體高速同步升溫，熱盤各個區域溫度保持一致。
價值提案
核心產品：溫度控制單元 nx-tc
價值點1.
每臺單元支持8ch控制,僅30mm寬度，大大節省面積。同時搭配小型連接器端子臺xw2k，進一步節省空間。
價值點2.
通過溫度均一fb實現高速設定且可保存多種配方，實現針對多種對象的均勻加熱的自動補償算法及溫度均一控制技術。各分區控溫精度達到了±0.1℃，溫度均一性達到了r=0.27。
相關產品
nx系列 高性能溫控單元 nx-htc
https://www.fa.omron.com.cn/products/family/3902/
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