2010年4月7日,湖北省科技廳在武漢主持召開了由武漢三工光電設備制造有限公司完成的“SEF－G5太陽能光伏激光刻膜機”項目鑒定會。華中科技大學光電學院副院長、武漢中國光谷激光行業協會會長朱曉教授擔任鑒定委員會主任委員，武漢大學物理科學與技術學院汪國平教授任鑒定委員會副主任委員。朱曉主持了項目鑒定，與會專家聽取了武漢三工光電設備制造有限公司總經理何成鵬所作的工作報告和技術報告，審閱了相關技術資料，并觀看了“SEF-G5太陽能光伏激光刻膜機”現場演示。
專家們認為，SEF-G5激光刻膜機重點解決如下關鍵技術，采用全封閉式結構，膜面朝上運行，與流水生產線匹配，自動進出料，并采用大面積非接觸式氣浮平臺支撐，實現了無摩擦支撐下的高速平穩運行。采用綜合除塵技術，包括定點除塵、隨動除塵、旋流除塵、靜電除塵、集塵過濾技術。采用獨特的四光路同步輸出方式，功率輸出穩定，保證了切割的均勻性，并采用CCD攝像和微位移制動的自動識別跟蹤定位系統，提高了系統的刻膜精度，并取得實用新型專利5項。
“SEF－G5太陽能光伏激光刻膜機”達到了項目的既定指標，填補了國內高端激光刻膜機產品的空白，部分指標達到國際先進水平，具有自主知識產權，已在國內推廣使用，替代進口，獲得了良好的經濟效益和社會效益，具有很好的市場應用前景。
